Les législateurs américains redoutent un scénario catastrophique dans lequel la Chine deviendrait autonome dans la production de semi-conducteurs avancés.
Jusqu’à présent, le seul obstacle empêchant la Chine — et Huawei en particulier — de produire des processeurs capables de concurrencer ceux de TSMC ou de Samsung est l’interdiction d’exporter vers la Chine les machines de lithographie aux ultraviolets extrêmes (EUV), cruciales pour la fabrication de puces avancées. Cette interdiction touche notamment SMIC, le troisième plus grand fondeur mondial.
Les machines de lithographie EUV sont essentielles pour faire passer la fabrication des puces de nœuds de 10 nanomètres à des nœuds de 2 nanomètres, utilisés cette année par les principaux fondeurs pour produire leurs puces les plus sophistiquées, selon un rapport de PhoneArena.
Plus le nœud de gravure est réduit, plus les transistors peuvent être intégrés en grand nombre sur une puce, ce qui augmente sa puissance et réduit sa consommation d’énergie.
Les machines EUV permettent d’imprimer des circuits électroniques sur les plaquettes de silicium avec une précision extrême, bien supérieure à l’épaisseur d’un cheveu humain. Cela est indispensable pour construire des processeurs contenant des milliards de transistors.
Aujourd’hui, ASML, entreprise néerlandaise, est la seule au monde capable de produire ces machines EUV. Mais sous pression des États-Unis et des Pays-Bas, ASML est interdite d’exporter ses équipements EUV vers la Chine.
Cependant, SMIC et d’autres entreprises chinoises peuvent encore acheter des machines de lithographie DUV (ultraviolet profond), capables de produire des puces en 7 nanomètres, mais cela représente toujours un grand défi technologique.
Un progrès scientifique en cours ?
Des rumeurs circulent concernant un projet pionnier qui permettrait à la Chine de développer sa propre machine EUV.
Le dernier rapport évoque l’Institut de Shanghai d’optique et de mécanique fine, rattaché à l’Académie des sciences de Chine. Ce projet est dirigé par Lin Nan, ancien responsable des technologies des sources lumineuses chez ASML.
Lin et son équipe auraient réussi à développer une source lumineuse EUV produisant une longueur d’onde de 13,5 nanomètres, soit la norme mondiale pour la lithographie EUV.
Si cela est confirmé, des fondeurs chinois comme SMIC pourraient bientôt imprimer des circuits électroniques extrêmement détaillés sans avoir recours à la technique laborieuse du multi-patterning (impression de plusieurs motifs superposés pour pallier l’absence de machine EUV).
Le multi-patterning, bien que possible, présente de grands risques d’alignement des couches, où la moindre erreur peut compromettre la qualité de la puce.
Vers la fin des restrictions américaines ?
Si la Chine parvient à développer sa propre technologie EUV, elle échappera au contrôle américain sur l’accès aux semi-conducteurs avancés.
Des entreprises comme Huawei ont déjà démontré leur capacité d’innovation et leur résilience. Si Huawei réussissait à lancer un smartphone avec une puce 2 nanomètres — tout comme Apple prévoit de le faire en 2026 —, cela représenterait un tournant majeur et un échec des politiques américaines de restriction.
