La Chine a lancé ces dernières années un effort technologique d’une ampleur inédite pour réduire sa dépendance aux semi-conducteurs occidentaux, un programme que des responsables et des sources industrielles comparent à un véritable « projet Manhattan » des puces. Objectif : développer des technologies clés, notamment la lithographie de pointe, indispensables à la fabrication de semi-conducteurs avancés utilisés dans l’intelligence artificielle.
Au cœur de ce dispositif figure une équipe basée à Shenzhen, composée en partie d’anciens ingénieurs du groupe néerlandais ASML, leader mondial des machines de lithographie extrême ultraviolet (EUV). Selon plusieurs sources, cette équipe a achevé début 2025 un prototype fonctionnel de machine EUV, un jalon majeur pour Pékin dans sa quête d’autonomie technologique. La machine, massive, occuperait à elle seule tout un étage d’usine.
Malgré cette avancée, le projet reste à un stade expérimental. La machine EUV chinoise est actuellement en phase de test et n’a pas encore permis de produire des puces pleinement fonctionnelles, indiquent les mêmes sources. La mise au point de ce type d’équipement est extrêmement complexe : elle nécessite une précision extrême, une chaîne d’approvisionnement sophistiquée et des années d’ajustements techniques.
Le gouvernement chinois s’est officiellement fixé l’horizon 2028 pour parvenir à produire des puces avancées capables de rivaliser avec celles fabriquées en Occident. Toutefois, des experts du secteur estiment que cet objectif est ambitieux et jugent plus réaliste une échéance autour de 2030, compte tenu des obstacles technologiques et des restrictions internationales sur l’accès à certains composants critiques.
Cette stratégie s’inscrit dans un contexte de tensions géopolitiques accrues et de contrôles à l’exportation imposés par les États-Unis et leurs alliés, qui limitent l’accès de la Chine aux technologies de pointe. En réponse, Pékin a mobilisé des financements publics massifs, renforcé la coopération entre instituts de recherche et entreprises, et encouragé le retour de talents formés à l’étranger.
Si le chemin reste long avant une réelle autonomie, ce « projet Manhattan » des puces illustre la détermination de la Chine à combler son retard dans les semi-conducteurs avancés et à se positionner comme un acteur majeur de l’IA mondiale, malgré les barrières technologiques et politiques dressées par l’Occident.
