Il colosso cinese Huawei ha annunciato l'intenzione di progettare entro il 2031 chip di fascia alta con una densità di transistor equivalente alla tecnologia a 1,4 nanometri, nonostante le sanzioni statunitensi che limitano l'accesso della Cina alle tecnologie avanzate.
In una dichiarazione rilasciata lunedì, Huawei ha presentato quella che definisce la "legge di scala Tau", un nuovo approccio progettato per migliorare le prestazioni dei semiconduttori senza fare affidamento principalmente sulla miniaturizzazione dei transistor, che è diventata sempre più complessa e costosa per l'industria globale.
He Tingbo, presidente della divisione semiconduttori di Huawei e direttore del comitato scientifico del gruppo, ha illustrato questa strategia in occasione dell'IEEE International Circuits and Systems Symposium (ISCAS) 2026 a Shanghai.
Secondo Huawei, questo approccio privilegia nuovi metodi di architettura e ottimizzazione dei chip per aumentarne la potenza e l'efficienza energetica, mentre le restrizioni statunitensi complicano l'accesso della Cina alle apparecchiature di produzione più avanzate.
L'obiettivo fissato dal gruppo cinese è particolarmente ambizioso: la tecnologia a 1,4 nm è considerata prossima alla frontiera globale della produzione di semiconduttori, che dovrebbe essere raggiunta entro la fine del decennio.
Tuttavia, Huawei non ha presentato alcun dato indipendente per verificare le effettive prestazioni di questa tecnologia futuristica.
Le sanzioni imposte da Washington negli ultimi anni hanno limitato severamente l'accesso delle aziende cinesi alle attrezzature e ai software occidentali necessari per produrre i chip più avanzati, spingendo Pechino ad accelerare gli sforzi per sviluppare un'industria nazionale indipendente.
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